Radiation Shielding MCQ Quiz in हिन्दी - Objective Question with Answer for Radiation Shielding - मुफ्त [PDF] डाउनलोड करें

गणना:

चित्र 1 से:

W₀ = σ A (T_P⁴ - T_Q⁴)

चित्र 2 से (जब दो मध्यवर्ती प्लेटें डाली गईं):

W_S = σ (T_P⁴ - T₁⁴) = σ (T₁⁴ - T₂⁴) = σ (T₂⁴ - T_Q⁴)

⇒ प्रत्येक चरण में ऊर्जा प्रवाह समान होता है, इसलिए:

3W_S = σ (T_P⁴ - T_Q⁴) = W₀

⇒ W₀ / W_S = 3

अंतिम उत्तर: 3.00

व्याख्या:

विकिरण परिरक्षक

• दो सतहों के बीच विकिरण ऊष्मा स्थानांतरण उनके बीच विकिरण परिरक्षक डालने से बहुत कम हो जाता है।
• विकिरण परिरक्षक ऊष्मा प्रवाह के मार्ग में अतिरिक्त प्रतिरोधों को रखकर ऊष्मा अंतरण को कम करते हैं।
• विकिरण परिरक्षकों में उच्च परावर्तकता और निम्न उत्सर्जकता होनी चाहिए।

दो अपरिमित रूप से लंबी समानांतर प्लेटों के बीच विकिरण ऊष्मा विनिमय (q) द्वारा दिया जाता है:

\(q = \frac{{\sigma \left( {T_1^4\;-\;T_2^4} \right)}}{{\frac{1}{{{ϵ_1}}}\;+\;\frac{1}{{{ϵ_2}}}\;-\;1}}\)

अगर हम उत्सर्जन ϵ3 की एक परिरक्षक डालते हैं जहां ϵ3 > ϵ1, ϵ2, विकिरण ताप विनिमय (qs) द्वारा दिया जाएगा:

\(q_s=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( \frac{1}{ϵ_1}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )\;+\;\left ( \frac{1}{ϵ_2}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\)

गणना:

दिया गया है:

दो अपरिमित रूप से लंबी समानांतर प्लेटों के बीच विकिरण ऊष्मा विनिमय (q) होगा:

मान लेते हैं कि ϵ1 = ϵ2 = 0.5, ϵ3 = 0.25

\(q = \frac{{\sigma \left( {T_1^4\;-\;T_2^4} \right)}}{{\frac{1}{{{0.5}}}\;+\;\frac{1}{{{0.5}}}\;-\;1}}=\frac{\sigma({T_1^4\;-\;T_2^4})}{3}\)

इसी तरह जब परिरक्षक डाली जाती है,

\(q_s=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( \frac{1}{ϵ_1}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )\;+\;\left ( \frac{1}{ϵ_2}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\)

\(q_s=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( \frac{1}{0.5}\;+\;\frac{1}{0.25}\;-\;1 \right )\;+\;\left ( \frac{1}{0.5}\;+\;\frac{1}{0.25}\;-\;1 \right )}=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{10}\)

\(\frac{q-q_s}{q}=1-\frac{\frac{1}{10}}{\frac{1}{3}}= 0.70\)

70%

संकल्पना:

प्रति यूनिट क्षेत्र में ऊष्मा हस्तांतरण दर,

\(\frac qA = \frac{{\sigma \left( {T_1^4 - \;T_2^{4\;}} \right)}}{{\left( {\frac{2}{\epsilon} - 1\;} \right)\;\left( {n + 1} \right)}}\)

गणना:

\(\frac{q}{A} = \frac{{\sigma \left( {T_1^4 - T_2^4} \right)}}{{\left( {\frac{2}{e} - 1} \right)\left( {n + 1} \right)}}\)

शुरू में, n = 5

\({\left( {\frac{q}{A}} \right)_i} = \frac{{\sigma \left( {T_1^4 - T_2^4} \right)}}{{\left( {\frac{2}{E} - 1} \right)\left( 6 \right)}}\)

अंत में, n = 5 + 4 = 9

\({\left( {\frac{q}{A}} \right)_f} = \frac{{\sigma \left( {T_1^4 - T_2^4} \right)}}{{\left( {\frac{2}{E} - 1} \right)\left( {10} \right)}}\)

\(\% \;reduction = \left( {1 - \frac{{{{\left( {\frac{q}{A}} \right)}_f}}}{{{{\left( {\frac{q}{A}} \right)}_i}}}} \right) \times 100\)

\(\% \;reduction = \left( {1 - \frac{6}{{10}}} \right) \times 100\)

% reduction = 40%

स्पष्टीकरण :

विकिरण कवच

• दो सतहों के बीच विकिरण ऊष्मा स्थानांतरण उनके बीच विकिरण कवच डालने से बहुत कम हो जाता है ।
• विकिरण कवच ऊष्मा प्रवाह के मार्ग में अतिरिक्त प्रतिरोधों को रखकर ऊष्मा स्थानांतरण को कम करता है।
• विकिरण कवचों की उच्च परावर्तकता और कम उत्सर्जकता होनी चाहिए।

दो अनंत लंबे समांतर प्लेटों के बीच विकिरण ऊष्मा विनिमय (q) निम्न द्वारा दिया जाता है:

\(q = \frac{{\sigma \left( {T_1^4\;-\;T_2^4} \right)}}{{\frac{1}{{{ϵ_1}}}\;+\;\frac{1}{{{ϵ_2}}}\;-\;1}}\)

अगर हम उत्सर्जकता ϵ₃ का कवच डालें जहां ϵ3 > ϵ1, ϵ2, विकिरण ऊष्मा विनिमय (q_s)निम्न द्वारा दिया जाएगा:

\(q_s=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( \frac{1}{ϵ_1}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )\;+\;\left ( \frac{1}{ϵ_2}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\)

गणना:

दिया हुआ:

दो अनंत लंबे समांतर प्लेटों के बीच विकिरण ऊष्मा विनिमय (q) निम्न द्वारा दिया जाता है:

मान लेते हैं कि ϵ1 = ϵ2 = ϵ

\(q = \frac{{\sigma \left( {T_1^4\;-\;T_2^4} \right)}}{{\frac{1}{{{ϵ_1}}}\;+\;\frac{1}{{{ϵ_2}}}\;-\;1}}\)

\(q = \frac{{\sigma \left( {T_1^4\;-\;T_2^4} \right)}}{{\frac{2}{{{ϵ}}}\;-\;1}}\)

इसी तरह जब एक कवच डाला जाता है,

\(q_s=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( \frac{1}{ϵ_1}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )\;+\;\left ( \frac{1}{ϵ_2}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\)

\(q_s=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( \frac{2}{ϵ}\;-\;1 \right )\;+\;\left ( \frac{2}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\)

मान लेना \(\left(\frac{2}{{{ϵ}}}\;-\;1\right)=x\)

\(q = \frac{{\sigma \left( {T_1^4\;-\;T_2^4} \right)}}{{\frac{2}{{{ϵ}}}\;-\;1}}\Rightarrow \frac{{\sigma \left( {T_1^4\;-\;T_2^4} \right)}}{{x}}\)

उसी प्रकार

\(q_s=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( \frac{2}{ϵ}\;-\;1 \right )\;+\;\left ( \frac{2}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\Rightarrow \frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( x\right )\;+\;\left ( \frac{2}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\)

जब ϵ1 = ϵ2 = ϵ3 = ϵ

\(q_s= \frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( x\right )\;+\;\left ( \frac{2}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\Rightarrow \frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{2x}\)

ϵ3 ≥ ϵ1, ϵ2 के लिए विकिरण ऊष्मा स्थानांतरण घटेगा।

संकल्पना:

एक सतह का पृष्ठीय प्रतिरोध \(\frac{{1 - \epsilon}}{{A\epsilon\;}}\) दिया गया है

विकिरण विनियमित करने वाले दो सतहों के बीच आकृति प्रतिरोध \(\frac{1}{A_1F_{12}}\)दिया गया है

माना कि हम एक स्थिति लेते हैं जब प्लेट के बीच कोई आवरण नहीं होता है, तो 

तो पृष्ठीय प्रतिरोध दो है और आकृति प्रतिरोध एक है

अब जब एक आवरण को प्लेटों के बीच जोड़ा जाता है, तो 

तो आकृति प्रतिरोधों की कुल संख्या 4 है और आकृति प्रतिरोध 2 है,

इसलिए एक आवरण का जोड़ 2 पृष्ठीय प्रतिरोध और एक आकृति प्रतिरोध को बढ़ाएगा।

यदि n आवरण हैं, तो पृष्ठीय प्रतिरोध 2n + 2 और आकृति प्रतिरोध n + 1 होगा।

गणना:

यह दिया गया है कि 12 आवरण डाले जाते हैं

तो पृष्ठीय प्रतिरोध की संख्या = 2n + 2 = 2 × 12 + 2 = 26

स्पष्टीकरण :

विकिरण कवच

• दो सतहों के बीच विकिरण ऊष्मा स्थानांतरण उनके बीच विकिरण कवच डालने से बहुत कम हो जाता है ।
• विकिरण कवच ऊष्मा प्रवाह के मार्ग में अतिरिक्त प्रतिरोधों को रखकर ऊष्मा स्थानांतरण को कम करता है।
• विकिरण कवचों की उच्च परावर्तकता और कम उत्सर्जकता होनी चाहिए।

दो अनंत लंबे समांतर प्लेटों के बीच विकिरण ऊष्मा विनिमय (q) निम्न द्वारा दिया जाता है:

\(q = \frac{{\sigma \left( {T_1^4\;-\;T_2^4} \right)}}{{\frac{1}{{{ϵ_1}}}\;+\;\frac{1}{{{ϵ_2}}}\;-\;1}}\)

अगर हम उत्सर्जकता ϵ₃ का कवच डालें जहां ϵ3 > ϵ1, ϵ2, विकिरण ऊष्मा विनिमय (q_s)निम्न द्वारा दिया जाएगा:

\(q_s=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( \frac{1}{ϵ_1}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )\;+\;\left ( \frac{1}{ϵ_2}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\)

गणना:

दिया हुआ:

दो अनंत लंबे समांतर प्लेटों के बीच विकिरण ऊष्मा विनिमय (q) निम्न द्वारा दिया जाता है:

मान लेते हैं कि ϵ1 = ϵ2 = ϵ

\(q = \frac{{\sigma \left( {T_1^4\;-\;T_2^4} \right)}}{{\frac{1}{{{ϵ_1}}}\;+\;\frac{1}{{{ϵ_2}}}\;-\;1}}\)

\(q = \frac{{\sigma \left( {T_1^4\;-\;T_2^4} \right)}}{{\frac{2}{{{ϵ}}}\;-\;1}}\)

इसी तरह जब एक कवच डाला जाता है,

\(q_s=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( \frac{1}{ϵ_1}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )\;+\;\left ( \frac{1}{ϵ_2}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\)

\(q_s=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( \frac{2}{ϵ}\;-\;1 \right )\;+\;\left ( \frac{2}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\)

मान लेना \(\left(\frac{2}{{{ϵ}}}\;-\;1\right)=x\)

\(q = \frac{{\sigma \left( {T_1^4\;-\;T_2^4} \right)}}{{\frac{2}{{{ϵ}}}\;-\;1}}\Rightarrow \frac{{\sigma \left( {T_1^4\;-\;T_2^4} \right)}}{{x}}\)

उसी प्रकार

\(q_s=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( \frac{2}{ϵ}\;-\;1 \right )\;+\;\left ( \frac{2}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\Rightarrow \frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( x\right )\;+\;\left ( \frac{2}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\)

जब ϵ1 = ϵ2 = ϵ3 = ϵ

\(q_s= \frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( x\right )\;+\;\left ( \frac{2}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\Rightarrow \frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{2x}\)

ϵ3 ≥ ϵ1, ϵ2 के लिए विकिरण ऊष्मा स्थानांतरण घटेगा।

संकल्पना:

एक सतह का पृष्ठीय प्रतिरोध \(\frac{{1 - \epsilon}}{{A\epsilon\;}}\) दिया गया है

विकिरण विनियमित करने वाले दो सतहों के बीच आकृति प्रतिरोध \(\frac{1}{A_1F_{12}}\)दिया गया है

माना कि हम एक स्थिति लेते हैं जब प्लेट के बीच कोई आवरण नहीं होता है, तो 

तो पृष्ठीय प्रतिरोध दो है और आकृति प्रतिरोध एक है

अब जब एक आवरण को प्लेटों के बीच जोड़ा जाता है, तो 

तो आकृति प्रतिरोधों की कुल संख्या 4 है और आकृति प्रतिरोध 2 है,

इसलिए एक आवरण का जोड़ 2 पृष्ठीय प्रतिरोध और एक आकृति प्रतिरोध को बढ़ाएगा।

यदि n आवरण हैं, तो पृष्ठीय प्रतिरोध 2n + 2 और आकृति प्रतिरोध n + 1 होगा।

गणना:

यह दिया गया है कि 12 आवरण डाले जाते हैं

तो पृष्ठीय प्रतिरोध की संख्या = 2n + 2 = 2 × 12 + 2 = 26

स्पष्टीकरण :

विकिरण कवच

• दो सतहों के बीच विकिरण ऊष्मा स्थानांतरण उनके बीच विकिरण कवच डालने से बहुत कम हो जाता है ।
• विकिरण कवच ऊष्मा प्रवाह के मार्ग में अतिरिक्त प्रतिरोधों को रखकर ऊष्मा स्थानांतरण को कम करता है।
• विकिरण कवचों की उच्च परावर्तकता और कम उत्सर्जकता होनी चाहिए।

दो अनंत लंबे समांतर प्लेटों के बीच विकिरण ऊष्मा विनिमय (q) निम्न द्वारा दिया जाता है:

\(q = \frac{{\sigma \left( {T_1^4\;-\;T_2^4} \right)}}{{\frac{1}{{{ϵ_1}}}\;+\;\frac{1}{{{ϵ_2}}}\;-\;1}}\)

अगर हम उत्सर्जकता ϵ₃ का कवच डालें जहां ϵ3 > ϵ1, ϵ2, विकिरण ऊष्मा विनिमय (q_s)निम्न द्वारा दिया जाएगा:

\(q_s=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( \frac{1}{ϵ_1}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )\;+\;\left ( \frac{1}{ϵ_2}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\)

गणना:

दिया हुआ:

दो अनंत लंबे समांतर प्लेटों के बीच विकिरण ऊष्मा विनिमय (q) निम्न द्वारा दिया जाता है:

मान लेते हैं कि ϵ1 = ϵ2 = ϵ

\(q = \frac{{\sigma \left( {T_1^4\;-\;T_2^4} \right)}}{{\frac{1}{{{ϵ_1}}}\;+\;\frac{1}{{{ϵ_2}}}\;-\;1}}\)

\(q = \frac{{\sigma \left( {T_1^4\;-\;T_2^4} \right)}}{{\frac{2}{{{ϵ}}}\;-\;1}}\)

इसी तरह जब एक कवच डाला जाता है,

\(q_s=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( \frac{1}{ϵ_1}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )\;+\;\left ( \frac{1}{ϵ_2}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\)

\(q_s=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( \frac{2}{ϵ}\;-\;1 \right )\;+\;\left ( \frac{2}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\)

मान लेना \(\left(\frac{2}{{{ϵ}}}\;-\;1\right)=x\)

\(q = \frac{{\sigma \left( {T_1^4\;-\;T_2^4} \right)}}{{\frac{2}{{{ϵ}}}\;-\;1}}\Rightarrow \frac{{\sigma \left( {T_1^4\;-\;T_2^4} \right)}}{{x}}\)

उसी प्रकार

\(q_s=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( \frac{2}{ϵ}\;-\;1 \right )\;+\;\left ( \frac{2}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\Rightarrow \frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( x\right )\;+\;\left ( \frac{2}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\)

जब ϵ1 = ϵ2 = ϵ3 = ϵ

\(q_s= \frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( x\right )\;+\;\left ( \frac{2}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\Rightarrow \frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{2x}\)

ϵ3 ≥ ϵ1, ϵ2 के लिए विकिरण ऊष्मा स्थानांतरण घटेगा।

व्याख्या:

विकिरण परिरक्षक

• दो सतहों के बीच विकिरण ऊष्मा स्थानांतरण उनके बीच विकिरण परिरक्षक डालने से बहुत कम हो जाता है।
• विकिरण परिरक्षक ऊष्मा प्रवाह के मार्ग में अतिरिक्त प्रतिरोधों को रखकर ऊष्मा अंतरण को कम करते हैं।
• विकिरण परिरक्षकों में उच्च परावर्तकता और निम्न उत्सर्जकता होनी चाहिए।

दो अपरिमित रूप से लंबी समानांतर प्लेटों के बीच विकिरण ऊष्मा विनिमय (q) द्वारा दिया जाता है:

\(q = \frac{{\sigma \left( {T_1^4\;-\;T_2^4} \right)}}{{\frac{1}{{{ϵ_1}}}\;+\;\frac{1}{{{ϵ_2}}}\;-\;1}}\)

अगर हम उत्सर्जन ϵ3 की एक परिरक्षक डालते हैं जहां ϵ3 > ϵ1, ϵ2, विकिरण ताप विनिमय (qs) द्वारा दिया जाएगा:

\(q_s=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( \frac{1}{ϵ_1}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )\;+\;\left ( \frac{1}{ϵ_2}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\)

गणना:

दिया गया है:

दो अपरिमित रूप से लंबी समानांतर प्लेटों के बीच विकिरण ऊष्मा विनिमय (q) होगा:

मान लेते हैं कि ϵ1 = ϵ2 = 0.5, ϵ3 = 0.25

\(q = \frac{{\sigma \left( {T_1^4\;-\;T_2^4} \right)}}{{\frac{1}{{{0.5}}}\;+\;\frac{1}{{{0.5}}}\;-\;1}}=\frac{\sigma({T_1^4\;-\;T_2^4})}{3}\)

इसी तरह जब परिरक्षक डाली जाती है,

\(q_s=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( \frac{1}{ϵ_1}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )\;+\;\left ( \frac{1}{ϵ_2}\;+\;\frac{1}{ϵ_3}\;-\;1 \right )}\)

\(q_s=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{\left ( \frac{1}{0.5}\;+\;\frac{1}{0.25}\;-\;1 \right )\;+\;\left ( \frac{1}{0.5}\;+\;\frac{1}{0.25}\;-\;1 \right )}=\frac{\sigma\left ( T_1^4\;-\;T_2^4 \right )}{10}\)

\(\frac{q-q_s}{q}=1-\frac{\frac{1}{10}}{\frac{1}{3}}= 0.70\)

70%

संकल्पना:

\({q_{with\;shieed}} = \left( {\frac{1}{{N + 1}}} \right){q_{without\;shieed}}\)

\(\frac{{{{\left( Q \right)}_{with\;shield}}}}{{{{\left( Q \right)}_{without\;shield}}}} = \frac{1}{{N + 1}}\)

जहाँ N = आवरण की संख्या 

कृप्या यह ध्यान दे कि यह संबंध केवल तब मान्य होता है यदि सभी सतहों में बराबर उत्सर्जकता होती है।

गणना

दिया गया है:

विकिरित ऊष्मा स्थानांतरण के 75% कम होने का अर्थ 25% ऊष्मा स्थानांतरण की अनुमति प्रदान करना है। 

Q_{आवरण के साथ}  = q, Q_{आवरण के बिना} = 0.25q

\(\frac{{{{\left( Q \right)}_{with\;shield}}}}{{{{\left( Q \right)}_{without\;shield}}}} = \frac{1}{{N + 1}}\)

\(0.25\;q = \frac{1}{{\left( {N\;+\;1} \right)}}q\)

∴ N + 1 = 4 ⇒ N = 3

संकल्पना:

प्रति यूनिट क्षेत्र में ऊष्मा हस्तांतरण दर,

\(\frac qA = \frac{{\sigma \left( {T_1^4 - \;T_2^{4\;}} \right)}}{{\left( {\frac{2}{\epsilon} - 1\;} \right)\;\left( {n + 1} \right)}}\)

गणना:

\(\frac{q}{A} = \frac{{\sigma \left( {T_1^4 - T_2^4} \right)}}{{\left( {\frac{2}{e} - 1} \right)\left( {n + 1} \right)}}\)

शुरू में, n = 5

\({\left( {\frac{q}{A}} \right)_i} = \frac{{\sigma \left( {T_1^4 - T_2^4} \right)}}{{\left( {\frac{2}{E} - 1} \right)\left( 6 \right)}}\)

अंत में, n = 5 + 4 = 9

\({\left( {\frac{q}{A}} \right)_f} = \frac{{\sigma \left( {T_1^4 - T_2^4} \right)}}{{\left( {\frac{2}{E} - 1} \right)\left( {10} \right)}}\)

\(\% \;reduction = \left( {1 - \frac{{{{\left( {\frac{q}{A}} \right)}_f}}}{{{{\left( {\frac{q}{A}} \right)}_i}}}} \right) \times 100\)

\(\% \;reduction = \left( {1 - \frac{6}{{10}}} \right) \times 100\)

% reduction = 40%

गणना:

चित्र 1 से:

W₀ = σ A (T_P⁴ - T_Q⁴)

चित्र 2 से (जब दो मध्यवर्ती प्लेटें डाली गईं):

W_S = σ (T_P⁴ - T₁⁴) = σ (T₁⁴ - T₂⁴) = σ (T₂⁴ - T_Q⁴)

⇒ प्रत्येक चरण में ऊर्जा प्रवाह समान होता है, इसलिए:

3W_S = σ (T_P⁴ - T_Q⁴) = W₀

⇒ W₀ / W_S = 3

अंतिम उत्तर: 3.00